Produkter

Optesch Element - optesch Fënster

Optesch Fënster gëtt benotzt fir d'Ëmfeld op béide Säiten ze trennen, sou wéi den Interieur an d'Äussere vum Instrument ze trennen, sou datt den Interieur an d'Äussere vum Instrument vuneneen isoléiert sinn, sou datt d'intern Apparater schützen.Et ass e Basis opteschen Element an eng optesch flaach Plack.Et ännert d'optesch Vergréisserung net an beaflosst nëmmen den opteschen Wee am Liichtwee.

01 λ/ 4, λ/ 10 Siichtbar Liichtoptesch Fënster

s5er (1)

D'Fënsterplack ass eng parallele Fligerplack, déi normalerweis als Schutzfilm vum elektronesche Sensor oder als Detektor vum externen Ëmfeld benotzt gëtt.Antireflektiv Filmoptiounen enthalen UV, VIS, NIR a SWIR.Bariumfluorid (BaF2), Kalziumfluorid (CaF2), Zinksulfid (ZnS), Zinkselenid (ZnSe) oder Silizium (Si) Germanium (Ge) si gëeegent fir Infraroutapplikatiounen, während verschmolzene Quarz a Saphir gëeegent sinn fir ultraviolet Uwendungen.

02 K9 héich Präzisioun duebel-dofir opteschenWunnengen

s5er (2)

Optesch Appartementer kënnen als Standardebene benotzt ginn fir d'Flaachheetsfehler an d'Lappleistung vun anere Komponenten héich poléiert Flächen z'entdecken an z'identifizéieren.Et huet héich Präzisioun Flaachheet a gëtt allgemeng eleng benotzt.Uewerfläch Figur: λ / 10 an λ / 20 Zwou Zorte.

 03 K9 héich Präzisioun wedge Fënster

s5eyr (3)

Déi zwee Fligeren vun der Keilfenster hunn en abegraff Wénkel vun 31 Bogenminutt.Déi zwee net-parallel Ebene kënnen den Interferenzeffekt (Etalon-Effekt) vermeiden, verursaacht duerch dat reflektéiert Liicht vun der viischter an hënneschter Fläch vun der héijer Parallelismusfenster, a kënnen och déi schlecht Stabilitéit vum Laseroutput a Modussprong vermeiden duerch optesch Stéierungen. Feedback vun der Laser resonator.

04 K9 Kugelgestalt Cover 

De sphäresche Cover ass eng hemisphäresch Shell-geformt Schutzfenster, déi dacks an der Uwendung vu grousse Wénkelbereich-Infallslicht benotzt gëtt, wéi Detektoren, opteschen Sensoren an aner Uwendungen.

s5er (4)

☆ Auswielguide vun der optescher Fënster: Auswiel vun passenden Fënster ass kritesch fir den Erfolleg vun der Applikatioun.D'Haaptfaktoren déi berücksichtegt ginn enthalen: Substratmaterialien, Beschichtungsprozess, optesch a mechanesch Genauegkeet.En aneren Ausdrock kann och sinn: Substrat, Spezifizéierung, Iwwerdroung, Uewerflächengenauegkeet, Parallelismus, Laserschuedschwell an aner verbonne Parameteren. 

1 -Substrat Material

D'Auswiel vu Substratmaterialien enthält haaptsächlech Wellelängt, Brechungsindex, Dispersiounskoeffizient, Dicht, thermesch Expansiounskoeffizient, Erweichungstemperatur, Knoop-Häertkeet, asw. Quarz.Kalziumfluorid, Silizium, Germanium, Zinksulfid, Zinkselenid a Chalcogenidglas ginn allgemeng an der Mëtt a wäit Infraroutbänner benotzt.

2 - Optesch a mechanesch Genauegkeet

Surface Flatness: et gëtt benotzt fir ze moossen wéi flaach d'Uewerfläch vun enger Fënster ass.Et gëtt normalerweis relativ zu 632,8nm Welle gemooss;D'Flaachheet vun der 1/10 Welle entsprécht der Flaachheet vu 632,8.Allgemeng gëtt 1/10 Welle oder besser Fënsterschnëtt fir Laser bevorzugt, an 1/4 oder besser Fënsterschnëtt ass léiwer fir Bildapplikatiounen;D'Beliichtung an d'Detektioun si gëeegent fir Fënsterstécker mat manner Genauegkeet. 

Parallelismus: De Grad vun der Parallelismusabweichung tëscht zwou Flächen vun der optescher Fënster.Am Allgemengen, héich parallelism Fënster Slice ass néideg fir Imaging;Niddereg Parallelismus gëtt fir Laserapplikatioun benotzt;Parallelismus ass allgemeng net erfuerderlech fir Beliichtung an Detektioun. 

Uewerfläch Qualitéit: Et bezitt sech op d'Evaluatioun vun Uewerfläch Mängel, normalerweis duerch zwou Figuren vertruede, eent ass "Schrummen" an déi aner ass "Pitting".An der Praxis.D'Uewerflächqualitéit vun 10-5 / 20-10 ass schwéier ze gesinn, a gëtt normalerweis vum Laser benotzt;40-20 ass net einfach ze gesinn, normalerweis fir Bildgebitt benotzt;60-40 ass allgemeng a gëeegent fir Detektioun a Beliichtung. 

3 - Beschichtung Auswiel

Fënsterplacke ginn dacks mat Antireflektiounsbeschichtungen beschichtet fir Uewerflächereflektiounsverloscht ze reduzéieren an d'Liicht komplett an de Substrat ze penetréieren.Allgemeng ginn et dräi Aarte vun Antireflexiounsbeschichtungen: Eenschicht Antireflexbeschichtungen, Breetband-Antireflektiounsbeschichtungen a V-Typ Antireflektiounsbeschichtungen.Dës dräi Aarte vu Filmer sinn ënnerschiddlech a Spektraleigenschaften, Uwendungsomfang, Beschichtungsmaterialien, Prozessschwieregkeet a Beschichtungskäschte.


Post Zäit: Nov-14-2022